黄色氧化钨靶材
黄色氧化钨靶材是以黄钨（WO3）作为镀膜靶材，通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成WO3功能薄膜。WO3薄膜是一种重要的功能材料，具有优良的电致变色性能，而被广泛应用。黄色氧化钨靶材常见的制备方法有固相法、液相法和气相法；采用一般电子陶瓷的制备方法，其工艺流程一般为：球磨混料—压制成型—烧结。
黄色氧化钨靶材的SEM分析表明，不同温度下烧结的黄钨样品的致密度、晶粒之间结合强度有不同，如1000℃的时候坯体中相互接触的粉末颗粒之间通过传质过程形成一定程度的界面，并通过其生长使坯体产生收缩，这时样品的晶粒之间结合强度仍然较低，块体的致密度也不高，可以明显的观察到颗粒之间的各种空隙，靶材烧结程度不高；而当温度达到1100℃的时候，空隙有所减少，晶界增加，样品的致密程度得到一定提高；当烧结温度达到合理烧结温度1200℃时，WO3晶粒的大小和分布都比较均匀，晶粒发育完全，晶粒之间形成有力地结合，晶界进一步增大。
上图中，a为1000℃下WO3靶材的SEM图谱；b为1100℃下WO3靶材的SEM图谱；c为1200℃下WO3靶材的SEM图谱。
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