黃色氧化鎢研究文集

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黃色氧化鎢(即三氧化鎢)研究文集列舉三氧化鎢的一些學術研究文章。三氧化鎢因爲其外觀呈黃色而被稱爲黃色氧化鎢,是一種n型半導體過渡金屬氧化物,具有許多優异的性能,而受到廣泛的研究。

六方相三氧化鎢納米綫的製備及其光催化性能研究 以Na2WO4.2H2O和HCl爲原料,K2C2O4和K2SO4分別作爲結構導向劑,通過水熱法在150℃下反應12 h,製備出六方相WO3納米綫。

三氧化鎢納米綫的製備及其光催化性能 以Na2WO4•2H2O和HCl爲原料,采用水熱法合成了WO3,幷用X射綫粉末衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、紫外漫反射(UV-Vis)、電子能量分散譜(EDS)和激光拉曼光譜(Raman)測試手段對樣品進行表徵。測試結果表明,Na2SO4作爲添加劑時水熱合成的産物皆爲六方相三氧化鎢納米綫,其粗細和長短略有差异,不同濃度的Na2SO4對産品晶型和形貌無影響,但影響其晶粒尺寸,其中0.125M Na2SO4所得六方相WO3納米綫的尺寸最小,平均直徑約爲5nm,長度約爲1um,幷具有最佳的光催化活性,可見光(≥420 nm)照射150min羅丹明B溶液後的降解率達96.01%。

三氧化鎢陶瓷非綫性伏安特性研究 采用傳統陶瓷工藝製備了三氧化鎢(WO3)陶瓷,研究了淬火工藝和氣氛條件下熱處理對WO3陶瓷非綫性特性的影響。

三氧化鎢陶瓷的壓敏特性和機理 采用傳統電子陶瓷燒結工藝,製備了無摻雜物的三氧化鎢(WO3)陶瓷。分析了陶瓷樣品經淬火和不同氣氛下處理後的微結構和壓敏電學特性。根據實驗結果,提出了一種修正的晶界Schottky勢壘模型,解釋了三氧化鎢陶瓷的壓敏特性。

淬火工藝對納米前驅體三氧化鎢功能陶瓷伏安特性的影響 采用自製納米三氧化鎢粉末爲原料,以淬火工藝制得納米前驅體三氧化鎢功能陶瓷。通過I-V特性測量、顯微結構和相結構分析,研究了在不同的溫度下淬火三氧化鎢陶瓷的伏安特性。

使用三氧化鎢薄膜之苯氣體傳感器 本文利用微機電制程製作成三氧化鎢薄膜苯氣體傳感器,其結構包含三氧化鎢感測層、白金指叉式電極。利用RF濺渡方式沉積出三氧化鎢薄膜,再由退火處理來得到較多的孔洞結構來提升傳感器的靈敏度,再將微型傳感器置于氣體檢測箱在200℃、250℃及300℃不同操作溫度下觀察苯濃度與感測層電阻值間的變化關係。

亞微米三氧化鎢超細粉末的製備 用氧化還原的方法,由ATP制得亞微米三氧化鎢超細粉末,再用電子探針掃描。結果表明:經過兩次氧化還原後,可以得到亞微米結構的三氧化鎢粉末。此方法簡單易行,具有很高的實用價值。

三氧化鎢直接催化氧化四氫苯酐合成丁烷四羧酸 以三氧化鎢爲催化劑,無需有機溶劑、酸性配體及相轉移劑,用30%H2O2爲氧化劑氧化四氫苯酐(THPA)直接合成1,2,3,4-丁烷四羧酸(BTCA)即可達到較高的産率和純度,反應結束後通過簡單的過濾分離方法即可實現産物與催化劑分離目的。當(WO3)∶(環己烯)∶(H2O2)的摩爾比爲1∶80∶352時,在回流溫度下反應6h,己二酸分離産率爲85%,産品純度可達到98%。生産工藝簡單,無污染,操作成本低。

原子吸收光譜法測定三氧化鎢中微量鈷鎳銅 論述利用表面活性劑的增感作用原子吸收光譜法測定三氧化鎢中微量的鈷、鎳、銅的新方法。研究了陰離子表面活性劑十二烷基硫酸鈉對鈷、鎳、銅的增感效果和消除基體鎢的干擾的作用,探討其機理。該方法用于樣品分析時得到滿意的結果。

三氧化鎢的礦氣氣敏傳感器的研究 以鎢絲爲原料,用氣相法製備納米WO3氣敏材料,以WO3爲基材,製備了礦氣氣敏傳感器。氣敏性能測試表明,在2.5V加熱電壓下,該法製備出的傳感器元件對5000ppm的礦氣,靈敏度達2.6。分析後認爲製備的材料大小分布呈連續性,晶粒間的體缺陷是增加元件對礦氣靈敏度的主要原因。

硫氰酸鹽光度法測定地質岩石礦物中的三氧化鎢 試樣經Na2O2熔融,在3~4mol/L的HCl介質中,以TiCl3爲還原劑,將W 6還原爲W 5,幷與SCN-作用生成穩定的黃色絡合物,借此進行光度測定,該絡合物采用721分光光度計在430nm處測定,有最大吸收,此方法靈敏度高,重綫性好,適用于地質樣品中ω(WO3)/10-2=0.03~5.0的測定。

三氧化鎢薄膜表面分子結構空間形態的AFM研究 詳細介紹了一種高精度原子力顯微鏡AFM.IPC-208B的結構與性能以及三氧化鎢溶膠-凝膠摻鉑薄膜和三氧化鎢磁控離子濺射摻鉑薄膜的製備。利用AFM.IPC-208B研究了2種三氧化鎢晶化薄膜表面的分子結構,幷對其X射綫衍射譜進行了分析。結果發現,磁控濺射三氧化鎢摻鉑複合薄膜在400℃下晶化,(106)面爲其自然生長面,自然生長面上含有3個鎢離子,7個氧離子(或2個鎢離子,8個氧離子),分別位于4個相連的四邊形的頂點,晶格常數爲0.35±0.05nm,1.35±0.05nm;三氧化鎢溶膠-凝膠摻鉑複合薄膜經460℃熱處理後晶化,自然生長面爲(002)面,在(002)面上有5個離子,4個氧離子位居四邊形的頂點,鎢離子處于四邊形的中心,氧離子間距爲0.55±0.05nm,晶格常數爲0.75±0.05nm。同時,原子力顯微鏡圖像所測得各晶格常數得到了X射綫衍射譜的驗證。

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